| 发明名称 | 衬底支撑件和光刻工艺 | ||
| 摘要 | 公开了一种用于浸没式光刻工艺的衬底支撑件，所述衬底支撑件构建用于支撑衬底。该衬底支撑件具有中心部分和外围部分，所述外围部分包括被设置用于从衬底支撑件的顶部表面提取液体的提取管道，所述提取管道连接到构造成将液体从衬底支撑件输出的排出管道。衬底支撑件进一步包括热分离器，所述热分离器被设置在外围部分中，被配置为设置用于减少中心部分和外围部分之间的热传递。 | ||
| 申请公布号 | CN101226341A | 申请公布日期 | 2008.07.23 |
| 申请号 | CN200710199778.X | 申请日期 | 2007.12.10 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | 彼得·雷纳特·马里亚·埃尼;弗里茨·范德尔默伦;约斯特·叶罗因·奥腾斯;彼得·保罗·斯泰厄特;胡贝特·马蒂厄·理查德·斯泰尼斯;彼得·史密兹 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王文生 |
| 主权项 | 1.一种在浸没式光刻加工过程中用于支撑衬底的衬底支撑件，该衬底支撑件包括：中心部分；以及被设置在中心部分周围的外围部分；其特征在于热分离器(11、13、15)，所述热分离器被设置用于减少所述中心部分和所述外围部分之间的热传递。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||