| 发明名称 | 除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置及方法 | ||
| 摘要 | 本发明的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置及方法，该装置包括一激光光源、一透镜组以及一平台。平台与透镜组保持一适当的距离，并供容纳与放置具有护膜的掩模。从该激光光源发出的激光经过该透镜组投射至平台上，且投射至平台的激光穿过护膜并除去位于掩模上的杂质。本发明的除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的方法的一较佳实施例包括下列步骤：提供一激光光源以及一平台；将具有护膜的掩模放置于平台上；以及使激光从激光光源投射至平台，并穿过该护膜，从而除去位于掩模上的杂质。本发明的优点在于：不必拆卸薄膜也能清除掩模上的杂质或异物。 | ||
| 申请公布号 | CN101226337A | 申请公布日期 | 2008.07.23 |
| 申请号 | CN200710002271.0 | 申请日期 | 2007.01.17 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 林锦鸿;胡清旺;何铭涛 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 潘培坤 |
| 主权项 | 1.一种除去位于被护膜覆盖的掩模上的杂质的装置，包括：一激光光源；一透镜组；以及一平台，其与该透镜组保持一适当的距离，并供容纳与放置具有护膜的掩模，其中从该激光光源发出的激光经过该透镜组投射至该平台上，且投射至该平台的激光穿过该护膜并除去位于该掩模上的杂质。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹市 | ||