发明名称 |
一种电子枪真空薄膜沉积系统 |
摘要 |
本发明公开了一种电子枪真空薄膜沉积系统,包括真空腔体,在所述真空腔体外侧相对于所述真空腔体水平截面的几何中心线对称设置有若干个真空泵接口。由于本发明真空泵设置于底法兰盘的边缘或真空腔体侧壁,因此真空泵的安装不影响电子枪及其它部件的安装和布置,而且真空泵接口的对称布置或周向均匀布置保证了真空腔体内流场的对称分布,这种对称流场使电子枪蒸发的气体粒子在其上方的基片表面上沉积更加均匀。 |
申请公布号 |
CN100404858C |
申请公布日期 |
2008.07.23 |
申请号 |
CN200510124041.2 |
申请日期 |
2005.11.28 |
申请人 |
中国科学院力学研究所 |
发明人 |
刘宏立;樊菁;舒勇华 |
分类号 |
F04B37/14(2006.01);C23C14/00(2006.01) |
主分类号 |
F04B37/14(2006.01) |
代理机构 |
北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
尹振启 |
主权项 |
1.一种电子枪真空薄膜沉积系统,包括真空腔体,真空腔体下方设置有电子枪、供电部件、水冷部件,真空腔体内设置有电子枪蒸发源,其特征在于:在所述真空腔体外侧相对于所述真空腔体水平截面的几何中心线对称设置有若干个真空泵接口。 |
地址 |
100080北京市海淀区北四环西路15号 |