| 发明名称 | 多层构造体及其清洗方法 | ||
| 摘要 | 现在，迅速且经济性地提供大型的陶瓷构件处于困难的状况。通过在比较容易制作的材料上形成的基材上形成陶瓷膜，构成多层构造体。陶瓷膜可以通过等离子体熔射、CVD、PVD或者溶胶－凝胶法等方法制成，另外也可以通过与熔射膜组合的方法进行成膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101218375A | 申请公布日期 | 2008.07.09 |
| 申请号 | CN200680025075.9 | 申请日期 | 2006.07.12 |
| 申请人 | 国立大学法人东北大学;日本陶瓷科技股份有限公司 | 发明人 | 大见忠弘;寺本章伸;森永均;岸幸男;大泷浩通;传井美史 |
| 分类号 | C23C26/00(2006.01);C23C16/40(2006.01);B08B3/12(2006.01);C23C28/04(2006.01);C23C14/08(2006.01);H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | C23C26/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李贵亮 |
| 主权项 | 1.一种多层构造体，其具备基材和在该基材表面上形成的膜，其特征在于，在所述膜上具有0.2μm以上粒径的粒子的附着数每1mm2为2个以下。 | ||
| 地址 | 日本国宫城县 | ||