SELF-IONIZED PLASMA FOR SPUTTERING COPPER,申请号KR20000059181-传众专利搜索

发明名称	SELF-IONIZED PLASMA FOR SPUTTERING COPPER
摘要
申请公布号	KR100843514(B1)	申请公布日期	2008.07.04
申请号	KR20000059181	申请日期	2000.10.09
申请人		发明人
分类号	C23C14/34;H01L21/203;C23C14/04;C23C14/35;C23C14/56;H01J37/32;H01J37/34;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/288;H01L21/3205;H01L21/768;H01L23/52	主分类号	C23C14/34
代理机构		代理人
主权项
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