发明名称 Plasma etching method
摘要
申请公布号 KR100844029(B1) 申请公布日期 2008.07.04
申请号 KR20060128411 申请日期 2006.12.15
申请人 发明人
分类号 H01L21/3065 主分类号 H01L21/3065
代理机构 代理人
主权项
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