发明名称 PHOTO MASK FOR DEPRESSING HAZE AND METHOD FOR FABRICATING THE SAME
摘要 A photo mask includes a transparent substrate, a light shielding layer pattern over the transparent substrate, and an ion-reaction preventing layer covering the transparent substrate and the light shielding layer pattern.
申请公布号 US2008160427(A1) 申请公布日期 2008.07.03
申请号 US20070770531 申请日期 2007.06.28
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 KIM YONG DAE
分类号 G03F1/00 主分类号 G03F1/00
代理机构 代理人
主权项
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