发明名称 半导体存储装置及其编程方法
摘要 根据本发明的半导体存储装置具有储存单元,该储存单元包括:层间绝缘膜、嵌入到层间绝缘膜中的下电极层、以及设置在层间绝缘膜上的记录层和上电极层。当向储存单元传送预定的电流时,通过大体上超过熔点来加热记录层,并且在记录层和下电极层之间的界面附近形成腔体。结果,将记录层与下电极层物理分离,并且没有电流流过储存单元。当将记录层与下电极层物理分离时,这些层不会再次回到接触状态。因此,可以不可逆地存储信息。
申请公布号 CN101211656A 申请公布日期 2008.07.02
申请号 CN200710160123.1 申请日期 2007.12.24
申请人 尔必达存储器股份有限公司 发明人 中井洁
分类号 G11C11/56(2006.01);G11C29/44(2006.01);G11C17/18(2006.01) 主分类号 G11C11/56(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 孙纪泉
主权项 1.一种半导体存储装置,包括:记录层,包括其电阻可以可逆改变的可变电阻材料;电极层,与记录层接触;写入电路,通过使电流流经其中而将记录层与电极层物理分离;以及检测电路,检测记录层和电极层之间的连接状态。
地址 日本东京