| 发明名称 | 在光学介质制品上涂覆标记物的方法 | ||
| 摘要 | 一种赋予光学制品(46)以标记物(54)的方法，其包括：修饰光学制品(46)表面(44)上的预定位置以改变预定位置的表面能；以均匀薄膜的形式将标记物(54)涂覆在光学制品(46)的整个表面(44)上；以及将标记物(54)保留在经修饰的预定位置，同时将标记物(54)从未修饰区域除去。该方法还包括：使光学制品(46)进行产生离心力的旋转运动；以及将标记物(54)保留在经修饰的预定位置，同时借助于离心力将标记物(54)从未修饰区域除去。一种光学制品(46)，其包括由包括以下步骤的方法制成的识别标记：将染料溶解在合适的溶剂中以形成溶液，修饰光学制品(46)表面(44)上的预定位置以改变预定位置的表面能，将该溶液涂覆在光学制品(46)的整个表面(44)上，使光学制品(46)进行产生离心力的旋转运动，以及将染料保留在经修饰的预定位置，同时借助于离心力将染料从光学制品(46)表面(44)的未修饰位置除去。 | ||
| 申请公布号 | CN100399444C | 申请公布日期 | 2008.07.02 |
| 申请号 | CN200380109425.6 | 申请日期 | 2003.12.02 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | 雷迪斯拉夫·A·波泰雷洛;马克·B·威斯纽德尔;史蒂文·F·哈伯德 |
| 分类号 | G11B7/24(2006.01);G11B7/26(2006.01);G06K19/06(2006.01) | 主分类号 | G11B7/24(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 封新琴;巫肖南 |
| 主权项 | 1.一种赋予光学存储介质(46)以光谱标记物(54)的方法，其包括：修饰光学存储介质(46)涂层表面(44)上的预定位置以改变预定位置的表面能；以均匀薄膜的形式将光谱标记物(54)涂覆在光学存储介质(46)涂层的整个表面(44)上；以及将光谱标记物(54)保留在经修饰的预定位置，同时从未修饰区域除去光谱标记物(54)。 | ||
| 地址 | 美国纽约州 | ||