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经营范围
发明名称
Double gate 1-transistor DRAM cell using bulk silicon and DRAM device having the same and method of manufacturing thereof
摘要
申请公布号
KR100842905(B1)
申请公布日期
2008.07.02
申请号
KR20060068749
申请日期
2006.07.21
申请人
发明人
分类号
H01L21/8242
主分类号
H01L21/8242
代理机构
代理人
主权项
地址
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