液晶显示装置制造方法以及在此方法中使用的掩模

摘要

一种液晶显示装置制造方法以及在此方法中使用的掩模。该方法通过调节涂覆于基板上各区域感光树脂的受光方式并对显影之后的感光树脂进行处理，以达到利用一张掩模版完成刻蚀接触孔以及减薄或去除端子部接触孔周边区域，导电层间导通接触孔周边区域及非必要保留区域的感光树脂厚度之目的。

主权项

1.一种液晶显示装置制造方法，以有机感光树脂为光刻胶，使用掩模对所述有机感光树脂进行光刻，并且保留特定区域的有机感光树脂作为绝缘层，其特征在于，所述方法包括以下步骤：a.使用掩模对感光树脂进行曝光，所述掩模至少包括下列曝光区域：一个或多个完全遮光区，用于遮挡入射光，形成完全不曝光区域；一个或多个完全曝光区，用于使入射光完全通过掩膜版，形成完全曝光区域；一个或多个微小图形阵列曝光区，此区域用于在感光树脂上曝光形成微小图形阵列图案；b.加热软化感光树脂，在不改变已形成的感光树脂图案区域形状前提下，使软化的感光树脂充分流动。