发明名称 电子设备用铜合金及其制造方法
摘要 本发明涉及一种以表层的加工变质层的厚度为0.2μm以下为特征的电子设备用铜合金及其制造方法。
申请公布号 CN101213314A 申请公布日期 2008.07.02
申请号 CN200680024087.X 申请日期 2006.07.04
申请人 古河电气工业株式会社 发明人 宇野岳夫;菅原亲人;三原邦照
分类号 C22C9/02(2006.01);C22F1/08(2006.01);C22C9/04(2006.01);C22F1/00(2006.01);C22C9/06(2006.01);C22F1/02(2006.01) 主分类号 C22C9/02(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 张平元
主权项 1.一种电子设备用铜合金,其中,表层的加工变质层的厚度为0.2μm以下。
地址 日本东京都