发明名称 |
抗静电膜的成膜方法和用该成膜方法形成的图像显示装置 |
摘要 |
本发明提供一种抗静电膜的成膜方法和用该成膜方法形成的图像显示装置,即使在表面上有凸凹不平的基材上也能以均匀的膜厚、高速地对抗静电膜进行成膜。在稳定地分散了金属氧化物微粒子的微粒子液(A)(1)中,添加用于降低该微粒子的ζ电位的绝对值的溶液(B)(2)和降低该微粒子的分散稳定性的溶液(C)(3),调制微粒子分散液(4),将具有绝缘性表面的基材(1)浸渍到该微粒子分散液(4)中,淀积微粒子凝集膜(8)之后,进行加热处理,从而获得抗静电膜(9)。 |
申请公布号 |
CN100398223C |
申请公布日期 |
2008.07.02 |
申请号 |
CN200410103392.0 |
申请日期 |
2004.12.24 |
申请人 |
佳能株式会社 |
发明人 |
铃木义勇 |
分类号 |
B05D5/12(2006.01);B05D1/18(2006.01);B05D3/00(2006.01) |
主分类号 |
B05D5/12(2006.01) |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
岳耀锋 |
主权项 |
1.一种电阻膜的成膜方法,在具有绝缘性表面的基材的表面上形成电阻比该绝缘性表面低的电阻膜,其特征在于:至少包括如下工序:将所述基材浸在其中分散了该电阻膜材料微粒子的微粒子分散液中,用微粒子分散液润湿该基材表面;通过将已经在所述微粒子分散液中浸渍过的基材浸在极性比水小的且介电率比水低的凝集液中以使润湿了该基材表面的微粒子分散液中的微粒子的ζ电位的绝对值比在该液中分散时的微粒子的ζ电位的绝对值小,从而在该基材表面上淀积微粒子凝集膜;和对所述微粒子凝集膜进行烧制形成电阻膜。 |
地址 |
日本东京 |