发明名称 | 静电卡盘装置 | ||
摘要 | 本发明公开了一种静电卡盘装置,用于支撑和固定晶片,包括基座、设于基座上表面的绝缘层以及设于绝缘层下基座中的电极,该绝缘层包括与晶片接触凸起的圆形环状接触面;凸起的圆形环状接触面的面积占绝缘层上表面面积的0.5%~50%。电极的形状及分布分别对应于圆形环状凸起的接触面。由于接触面积的减少,使得非接触面空间有足够多的氦气等惰性气体流通,热传导更加均匀,晶片表面温度均匀的效果更加明显;减少绝缘层与晶片的接触面时,同样可以提供足够的静电吸附力,并且静电释放更加容易,缩短静电释放时间,提高了晶片加工的效率。 | ||
申请公布号 | CN101211810A | 申请公布日期 | 2008.07.02 |
申请号 | CN200610171547.3 | 申请日期 | 2006.12.30 |
申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 吉美爱 |
分类号 | H01L21/683(2006.01) | 主分类号 | H01L21/683(2006.01) |
代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑立明;崔英华 |
主权项 | 1.一种静电卡盘装置,用于支撑和固定晶片,包括基座、设于基座上表面的绝缘层以及设于绝缘层下基座中的电极,其特征在于,所述绝缘层包括与晶片接触凸起的接触面;所述凸起的接触面的面积占绝缘层上表面面积的0.5%~50%。 | ||
地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 |