| 发明名称 | 用于441.6纳米波段的石英透射偏振分束光栅 | ||
| 摘要 | 一种用于441.6纳米波段的石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为328-341纳米、刻蚀深度为1.290-1.340微米时，偏振分束光栅的消光比大于100，TE偏振光的0级透射衍射效率和TM偏振光的1级透射衍射效率分别高于94.18％和96.01％，实现了将两种偏振模式相互垂直的光分为不同的方向。本发明石英光栅由光学全息记录技术或电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，可以低成本、大批量生产。 | ||
| 申请公布号 | CN100399066C | 申请公布日期 | 2008.07.02 |
| 申请号 | CN200610025644.1 | 申请日期 | 2006.04.12 |
| 申请人 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 发明人 | 周常河;王博 |
| 分类号 | G02B5/18(2006.01) | 主分类号 | G02B5/18(2006.01) |
| 代理机构 | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人 | 张泽纯 |
| 主权项 | 1.一种用于441.6纳米波段的高密度矩形深刻蚀石英透射偏振分束光栅，其特征在于该光栅的周期为328-341纳米，刻蚀深度为1.290-1.340微米，光栅的占空比为1/2。 | ||
| 地址 | 201800上海市800－211邮政信箱 | ||