利用双重曝光技术以在半导体元件中形成图案的方法

摘要

一种用于在一个半导体元件中形成一个图案的方法系包含利用一个线宽/间距光罩来在一个半导体基板之上执行一个用于一多功能的硬式光罩层的双重曝光制程,以形成一个具有一第一接触孔洞区域的多功能的硬式光罩层图案。该多功能的硬式光罩层图案系受到一个阻剂流动制程,以形成一个具有圆边的第二接触孔洞区域的多功能的硬式光罩层图案,其中该第二接触孔洞区域的尺寸系小于该第一接触孔洞区域的尺寸。