| 摘要 |
本创作系一种特殊罗盘结构,其主要由一罗盘组、一旋转盘、一嵌座、数投射器及数固定元件所组成,该罗盘组系由一罗盘及一承座所组成,且该罗盘系设于并可旋转于承座内,该罗盘系设有一具水平仪效果之指北针,且该承座周围设有数组对开之嵌槽,系用以嵌设投射器,而该旋转盘系叠设于罗盘上,其系为一相对于罗盘外型之板状体,其设一穿槽,系用以崁入嵌座,而该嵌座系为一长型块状体,其一侧凸设有一插销,系用以嵌入旋转盘之穿槽而使两者互相结合,且该嵌座上设有一透槽,系用以设置投射器,并于该透槽之一侧设有数透孔。 |
| 主权项 |
1.一种特殊罗盘结构,其主要由一罗盘组、一旋转 盘、一嵌座、数投射器及数固定元件所组成; 该罗盘组系由一罗盘及一承座所组成,且该罗盘系 凹设于并可旋转于承座内,该罗盘中央系设有一具 水平仪效果之指北针,且该承座周围设有数组对开 之嵌槽,系用以嵌设投射器,而该投射器系为一具 投射光线效果之发射器,其特征在于: 该旋转盘系叠设于罗盘上,其系为一相对于罗盘外 型之板状体,其中央设一穿槽,系用以崁入嵌座; 该嵌座系为一长型块状体,其一侧凸设有一插销, 系用以嵌入旋转盘之穿槽而使两者互相结合,且该 嵌座上设有一透槽,系用以设置投射器,并于该透 槽之两侧设有数透孔,系用以使固定元件穿入并迫 紧而将投射器固定于嵌座之透槽中。 2.如申请专利范围第1项所述的一种特殊罗盘结构, 其中,该罗盘中央系设有一具水平仪效果之指北针 。 3.如申请专利范围第2项所述的一种特殊罗盘结构, 其中,该指北针系为一封闭式且以油脂包覆并具磁 力之磁针。 4.如申请专利范围第1项所述的一种特殊罗盘结构, 其中,该罗盘与承座间乃设有一平衡环。 5.如申请专利范围第1项所述的一种特殊罗盘结构, 其中,该罗盘之一侧系为堪舆用之盘面,另一侧则 凸设有一嵌柱。 6.如申请专利范围第4项所述的一种特殊罗盘结构, 其中,该承座则为一厚度之矩形体,其中央凹设有 一容置空间,系用以装承罗盘及平衡环,并于其中 设有一套环,系用以嵌置平衡环。 7.如申请专利范围第4项所述的一种特殊罗盘结构, 其中,该平衡环乃设于承座之套环内,系为一金属 制之环状体,其上环嵌有复数个油石,系用以当罗 盘设于该承座之容置空间内时,除可减低罗盘于承 座中旋转时之磨耗,亦可因增加套环与罗盘间的接 触面积而使得罗盘在旋转时之平衡度增加,进而减 低罗盘组于堪舆时的使用误差。 8.如申请专利范围第1项所述的一种特殊罗盘结构, 其中,该承座环周则设有数平衡仪,系用以确认并 提高整个罗盘组于堪舆时的平衡度,使堪舆的准确 度更为提高,误差也更小。 9.如申请专利范围第1项所述的一种特殊罗盘结构, 其中,该旋转盘之厚度系等同于罗盘组中央所凹陷 之深度。 10.如申请专利范围第1项所述的一种特殊罗盘结构 ,其中,该旋转盘的外径系略大于罗盘之外径。 11.如申请专利范围第1项所述的一种特殊罗盘结构 ,其中,该固定元件可为螺丝。 图式简单说明: 第1图为习用之立体示意图。 第2图为本创作之立体分解图。 第3图为本创作之立体组合图。 第4图为本创作旋转盘与嵌座之组立示意图。 第5图为本创作投射器之实施示意图。 第6图为本创作投射器另一实施之实施示意图。 第7图为本创作罗盘组之组立示意图。 第8图为本创作罗盘组另一视角之组立示意图。 第9图为本创作加设一辅具之立体分解图。 第10图为本创作加设一辅具之立体组合图。 第11图为本创作加设一辅具后其投射器之实施示 意图。 |
