发明名称 正型光阻组成物及形成光阻图案的方法
摘要 一种正型光阻组成物,其包含一种硷溶性酚醛清漆树脂(A),其包含以下通式(I)表示的结构单元(a1),和以下通式(II)表示的结构单元(a2),和一种光敏剂(B)。
申请公布号 TWI298424 申请公布日期 2008.07.01
申请号 TW093121196 申请日期 2004.07.15
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 增田靖男;奥井俊树
分类号 G03F7/022(2006.01) 主分类号 G03F7/022(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 1.一种正型光阻组成物,其包含一种硷溶性酚醛清 漆树脂(A),该树脂包含以下通式(I)表示的结构单元 (a1): [其中,R1表示具1到5个碳原子的伸烷基,R2表示氢原 子、羟基或具1到4个碳原子的烷基,和m表示1到3的 整数],和一种以下通式(II)表示的结构单元(a2): [其中,R3表示氢原子、羟基或具1到4个碳原子的烷 基,和n表示1到3的整数],和一种光敏剂(B)。 2.一种正型光阻组成物,其包含一种硷溶性酚醛清 漆树脂(A'),该树脂包含以下通式(I)表示的结构单 元(a1): [其中,R1表示具1到5个碳原子的伸烷基,R2表示氢原 子、羟基或具1到4个碳原子的烷基,和m表示1到3的 整数],和一种以下通式(II)表示的结构单元(a2): [其中,R3表示氢原子、羟基或具1到4个碳原子的烷 基,和n表示1到3的整数],其中该一部分之包含在该 树脂内的羟基之氢原子被1,2-二叠氮磺醯基取 代。 3.如申请专利范围第2项之正型光阻组成物,进一步 包含一种光敏剂(B)。 4.一种形成光阻图案之方法,其包含将如申请专利 范围第1至3项中任一项之正型光阻组成物涂覆至 基材、进行预烘烤、完成选择性曝光、及然后完 成硷显影以形成光阻图案的步骤。
地址 日本