发明名称 侦测晶片上缺陷的方法
摘要 一种用来侦测一晶片上一缺陷的方法,该方法包含有:利用复数个扫描型样来扫描该晶片上复数个扫描串链;对于每一个扫描型样,取得至少一嫌疑节点集合或一安全节点集合;取得所有非空集合之嫌疑节点集合的一交集,其中非空集合之嫌疑节点集合系为至少包含有一嫌疑节点之嫌疑节点集合;取得对应该复数个扫描型样之所有安全节点集合之一联集;将该交集减去该联集,以取得一结果嫌疑节点集合;以及根据该结果嫌疑节点集合,以侦测该晶片上之该缺陷。
申请公布号 TWI298394 申请公布日期 2008.07.01
申请号 TW095108822 申请日期 2006.03.15
申请人 矽统科技股份有限公司 发明人 叶家宪;王淳生
分类号 G01R31/26(2006.01) 主分类号 G01R31/26(2006.01)
代理机构 代理人 许锺迪 台北县永和市福和路389号5楼
主权项 1.一种用来侦测一晶片上一缺陷(defect)的方法,其 包含有: 利用复数个扫描型样(scan pattern)来扫描该晶片上 复数个扫描串链(scan chain); 对于每一个扫描型样,取得至少一嫌疑节点集合( suspected defectset)或一安全节点集合(unsuspected defect set); 取得所有非空集合(non-null)之嫌疑节点集合的一交 集,其中非空集合之嫌疑节点集合系为至少包含有 一嫌疑节点之嫌疑节点集合; 取得对应该复数个扫描型样之所有安全节点集合 之一联集; 将该交集减去该联集,以取得一结果嫌疑节点集合 ;以及 根据该结果嫌疑节点集合,以侦测该晶片上之该缺 陷。 2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中每个嫌疑 节点集合系为一空集合或包含有对应所有扫描串 链之嫌疑节点,以及每个安全节点集合系为一空集 合或包含有对应所有扫描串链之安全节点。 3.如申请专利范围第2项所述之方法,其中侦测该晶 片之该缺陷另包含有: 若该结果嫌疑集合仅包含一嫌疑节点,则将该嫌疑 节点决定为该晶片之该缺陷。 4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中每个嫌疑 节点集合系为一空集合或包含有对应所有扫描串 链中一特定扫描串链之嫌疑节点,以及每个安全节 点集合系为一空集合或包含有对应所有扫描串链 之安全节点。 5.如申请专利范围第4项所述之方法,其中侦测该晶 片之该缺陷另包含有: 若该结果嫌疑集合仅包含一嫌疑节点,则将该嫌疑 节点决定为该晶片之该缺陷。 6.如申请专利范围第1项所述之方法,其中每个嫌疑 节点集合系为一空集合或包含有对应一特定扫描 串链中一子扫描串链(sub-chain)之嫌疑节点,以及每 个安全节点集合系为一空集合或包含有对应所有 扫描串链之安全节点。 7.如申请专利范围第4项所述之方法,其中侦测该晶 片之该缺陷另包含有: 若该结果嫌疑集合仅包含一嫌疑节点,则将该嫌疑 节点决定为该晶片之该缺陷。 8.如申请专利范围第6项所述之方法,其中每个扫描 串链皆包含有复数个正反器(flip-flop),以及该方法 另包含有: 根据该特定扫描串链中,对应嫌疑缺陷之复数个正 反器的分布情况,来决定该特定扫描串链之该子扫 描串链。 9.如申请专利范围第1项所述之方法,其另包含有: 藉由执行缺陷模拟(fault simulation),以产生一缺陷字 典(fault dictionary); 将该缺陷字典加以压缩,以产生一压缩后缺陷字典 ; 并且取得该嫌疑节点集合与该安全节点集合之步 骤包含有: 查阅该压缩后缺陷字典,以取得该嫌疑节点集合与 该安全节点集合。 10.如申请专利范围第9项所述之方法,其中每个扫 描串链皆包含有复数个正反器,该缺陷字典包含有 复数笔资料(entry),每一笔资料纪录有一正反器名 称,以及压缩该缺陷字典之方法包含有: 聚集对应一特定正反器名称的复数笔特定资料;以 及 于该复数笔特定资料中,至少将一重复的正反器名 称删除。 11.一种用来侦测一晶片上一缺陷(defect)的方法,其 包含有: 使用复数个扫描型样,来扫描该晶片上复数个扫描 串链,其中每一个扫描串链皆包含有复数个正反器 ; 对于每一个扫描型样,取得至少对应一特定正反器 之一嫌疑节点集合(suspected defect set)或对应所有扫 描串链之一安全节点集合(unsuspected defect set); 取得对应该特定正反器之所有嫌疑节点集合的一 第一联集; 取得对应该复数个扫描型样之所有安全节点集合 之一第二联集; 将该第一联集减去该第二联集,以取得一结果嫌疑 节点集合;以及 根据该结果嫌疑节点集合,来侦测该晶片之该缺陷 。 12.如申请专利范围第11项所述之方法,其中侦测该 晶片之该缺陷之步骤另包含有: 若该结果嫌疑节点集合仅包含有一嫌疑节点,则将 该嫌疑节点决定为该晶片之该缺陷。 13.如申请专利范围第11项所述之方法,其中侦测该 晶片之该缺陷之步骤另包含有: 若该结果嫌疑节点集合包含有复数个嫌疑节点,则 从该复数个嫌疑节点之中选择一特定嫌疑节点作 为该晶片之缺陷; 其中在该复数个嫌疑节点之中,该特定嫌疑节点系 为被最多扫描型样侦测到之嫌疑节点。 14.如申请专利范围第11项所述之方法,其中侦测该 晶片之该缺陷之步骤另包含有: 若该结果嫌疑节点集合包含有复数个嫌疑节点,则 从该复数个嫌疑节点之中选择一特定嫌疑节点作 为该晶片之缺陷; 其中在该复数个嫌疑节点之中,该特定嫌疑节点系 为影响最多正反器之扫描嫌疑节点。 15.如申请专利范围第11项所述之方法,其另包含有: 藉由执行缺陷模拟(fault simulatiOn),以产生一缺陷字 典(fault dictionary); 将该缺陷字典加以压缩,以产生一压缩后缺陷字典 ; 并且取得该嫌疑节点集合与该安全节点集合之步 骤包含有: 查阅该压缩后缺陷字典,以取得该嫌疑节点集合与 该安全节点集合。 16.如申请专利范围第15项所述之方法,其中每个扫 描串链皆包含有复数个正反器,该缺陷字典包含有 复数笔资料(entry),每一笔资料纪录有一正反器名 称,以及压缩该缺陷字典之方法包含有: 聚集对应一特定正反器名称的复数笔特定资料;以 及 于该复数笔特定资料中,至少将一重复的正反器名 称删除。 17.一种用来侦测一晶片上一缺陷(defect)的方法,其 包含有: 利用复数个扫描型样,来扫描该晶片上之复数个扫 描串链; 藉由执行缺陷模拟(fault simulation),以产生一缺陷字 典(fault dictionary),该缺陷字典包含有复数笔资料( entry),每一笔资料包含有一正反器名称; 聚集对应一特定正反器名称的复数个特定项目并 且于该复数个特定项目中,至少将一重复的正反器 名称删除,以压缩该缺陷字典,来产生一压缩后缺 陷字典; 查阅该压缩后缺陷字典,以取得一嫌疑节点集合与 一安全节点集合;以及 分析该嫌疑节点集合与该安全节点集合,以决定该 晶片之该缺陷。 图式简单说明: 第1图为本发明用来测试晶片的缺陷诊断之流程图 。 第2图为第1图之步骤110中分析嫌疑节点与安全节 点的方法流程图。 第3图系用来说明单一死接缺陷假设的分析方法。 第4图系用来说明单一扫描串链仅包含有单一缺陷 假设下的分析方法。 第5图说明了如何将一缺陷字典加以压缩。
地址 新竹市新竹科学工业园区研新一路16号