发明名称 用于印刷电路板之导孔之制作方法
摘要 本发明提供一种用于印刷电路板之导孔之制作方法,其包括如下步骤:提供一表面已布好线路之内层线路板;于该内层电路板之至少一表面顺次增加一次外层覆铜基板及一最外层覆铜基板,每一层覆铜基板分别包括一铜箔层及一基板层,且每一铜箔层皆远离内层线路板;于最外层覆铜基板之铜箔层上预定位置形成最外层铜窗;于最外层覆铜基板形成最外层铜窗后剩余之铜箔区域形成保护层;于最外层覆铜基板之基板层经第一次雷射形成预制孔;于预制孔对应之次外层覆铜基板之铜箔层区域形成次外层铜窗;移除保护层;于次外层铜窗对应之次外层覆铜基板之基板层经第二次雷射形成导孔之基本孔形;及于形成之导孔基本孔形之内壁镀铜,形成所述导孔。
申请公布号 TWI298613 申请公布日期 2008.07.01
申请号 TW095117887 申请日期 2006.05.19
申请人 鸿胜科技股份有限公司 发明人 李文钦;林承贤
分类号 H05K3/42(2006.01) 主分类号 H05K3/42(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种用于印刷电路板之导孔之制作方法,其包括 如下步骤: 提供一表面已布好线路之内层线路板; 于该内层电路板之至少一表面顺次增加一次外层 覆铜基板及一最外层覆铜基板,每一层覆铜基板分 别包括一铜箔层及一基板层,且每一铜箔层远离内 层电路板; 于最外层覆铜基板之铜箔层上预定位置形成最外 层铜窗; 于最外层覆铜基板形成最外层铜窗后剩余之铜箔 区域形成保护层; 于最外层覆铜基板之基板层经第一次雷射形成预 制孔; 于预制孔对应之次外层覆铜基板之铜箔层区域形 成次外层铜窗; 移除保护层; 于次外层铜窗对应之次外层覆铜基板之基板层经 第二次雷射形成导孔之基本孔形;及 于导孔之基本孔形内壁镀铜,形成所述导孔。 2.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法,其 中:该覆铜基板为涂树脂铜箔,或胶片与铜箔之叠 合结构。 3.如申请专利范围第2项所述之导孔之制作方法,其 中:该胶片之补强材料为绝缘性载体材料,其周围 附着树脂。 4.如申请专利范围第3项所述之导孔之制作方法,其 中:该绝缘性载体材料为玻璃纤维布、棉纸或白牛 皮纸。 5.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法,其 中:该保护层之材质为金属或树脂。 6.如申请专利范围第5项所述之导孔之制作方法,其 中:该保护层之材质系锡、镍、锡铅或贵金属。 7.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法,其 中:形成最外层铜窗包括曝光显影及蚀刻步骤。 8.如申请专利范围第7项所述之导孔之制作方法,其 中:该蚀刻步骤使用之蚀刻液为蚀铜液。 9.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法,其 中:预制孔在最外层铜窗限定之区域内。 10.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法, 其中:预制孔之孔径小于或等于最外层铜窗之直径 。 11.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法, 其中:预制孔与最外层铜窗同轴设置。 12.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法, 其中:预制孔之孔径大于或等于次外层铜窗之直径 。 13.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法, 其中:次外层铜窗采用蚀铜液蚀刻而成。 14.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法, 其中:第一次雷射及第二次雷射均采用二氧化碳雷 射。 15.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法, 其中:该导孔为埋孔、盲孔或通孔。 16.如申请专利范围第1项所述之导孔之制作方法, 其中:该导孔为二阶以上。 图式简单说明: 图1系典型之盲孔结构示意图。 图2A~2G系先前技术对图1所示盲孔结构之制作方法 。 图3系采用图2A~2G所示之制作方法形成之盲孔结构 之常见不良状况示意图。 图4系本发明制作图1所示盲孔结构之制作流程图 。 图5A~5I系本发明制作图1所示盲孔结构之制作方法 示意图。 图6A系采用本发明制作方法形成之盲孔在镀铜前 之俯视图。 图6B系采用本发明制作方法形成之盲孔在镀铜前 之剖面图。
地址 桃园县大园乡三和路28巷6号