发明名称 曝光机
摘要 一种曝光机,用于半导体领域,包括有一光源组,包含有复数个光源灯泡,及用以支撑该些光源灯泡架设之固定灯座,该灯座包含有复数个对应该些光源灯泡之灯罩,致该些光源灯泡之光线可集中照射出第一光源;一第一反射镜,用以接受该第一光源,并改变该第一光源之照射角度为第二光源;一复眼装置,用以接受该第二光源,透过该复眼装置,可让光线均匀化,而形成第三光源;一第二反射镜,用以接受该第三光源,并改变该第三光源之照射角度为第四光源;及一凸透镜,用以接受该第四光源,以将光线修正为所需之平行光及面积大小,而投射出所须之曝光光源。藉此,可用以改善传统灯泡寿命偏低及须仰赖使用水冷散热系统之缺失,以减少生产成本。
申请公布号 TWM335785 申请公布日期 2008.07.01
申请号 TW096217168 申请日期 2007.10.11
申请人 庄益祯 发明人 庄益祯
分类号 H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人
主权项 1.一种曝光机,包括: 一光源组,包含有复数个光源灯泡,及用以支撑该 些光源灯泡架设之固定灯座,该灯座包含有复数个 对应该些光源灯泡之灯罩,致该些光源灯泡之光线 可集中照射出第一光源; 一第一反射镜,用以接受该第一光源,并改变该第 一光源之照射角度为第二光源; 一复眼装置,用以接受该第二光源,透过该复眼装 置,可让光线均匀化,而形成第三光源; 一第二反射镜,用以接受该第三光源,并改变该第 三光源之照射角度为第四光源;及 一凸透镜,用以接受该第四光源,以将光线修正为 所需之平行光及面积大小,而投射出所须之曝光光 源。 2.如申请专利范围第1项所述之曝光机,其中,该些 光源灯泡可采用紫外线LED灯(UV LED)。 3.如申请专利范围第1或第2项所述之曝光机,其中, 该些光源灯泡之布设方式可采用为矩阵式灯泡排 列。 图式简单说明: 第1图系传统曝光机的机构示意图。 第2图系传统曝光机之单灯平行光源组配置示意图 。 第3图系本创作实施例曝光机之光源系统配置示意 图。
地址 台南县永康市盐洲二街175巷53号