薄膜图案形成方法及半导体装置之制造方法

摘要

一种形成光阻图案的方法,包括:藉由使用光微蚀刻,于目标薄膜上形成一光阻光罩;藉由镀膜,于光阻光罩上形成一混合衍生光阻薄膜;烘烤混合衍生光阻薄膜,以致于光阻光罩与混合衍生光阻薄膜之间的介面处形成一混合层;对混合衍生光阻薄膜显影;以及清洗最终的混合衍生光阻薄膜,以便暴露混合层,并缩小光阻光罩的图案尺寸。