用以控制电浆电位的设备及方法

摘要

一种半导体晶圆电浆处理用之设备,该设备包含腔室,其中设有下电极及上电极。该下电极用以传送射频电流通过该腔室,以在该腔室内产生电浆。上电极形成于下电极上方且与该腔室电性隔离。将电压源连接到上电极。该电压源用以控制上电极相对于该腔室之电压。受到该电压源控制之上电极之电位能够影响待产生于上下电极之间的电浆之电位。