发明名称 金属蚀刻方法
摘要 本发明提供一种金属蚀刻方法,包含以下步骤:提供一基板;形成一金属层于基板之上;形成一氧化铝层于金属层之上;图案化氧化铝层;以及以图案化氧化铝层为罩幕,蚀刻金属层。
申请公布号 TW200827485 申请公布日期 2008.07.01
申请号 TW095148369 申请日期 2006.12.22
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 李秀春;吴常明;陈逸男
分类号 C23F1/04(2006.01);G03F1/14(2006.01);G03F1/08(2006.01) 主分类号 C23F1/04(2006.01)
代理机构 代理人 蔡玉玲
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号