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发明名称
电子材料的清洗液及清洗方法
摘要
本发明系有关一种用于电子材料特别是矽晶圆的清洗液,及使用该清洗液的清洗方法。根据本发明之清洗液的特征在于,使用超纯水或加氢水作为原料水,并在氢微泡存在下,结合超音波辐射使用该清洗液。本发明之方法能有效清洗并除去该晶圆表面的颗粒成分等,且避免再污染。
申请公布号
TW200827048
申请公布日期
2008.07.01
申请号
TW096148611
申请日期
2007.12.19
申请人
世创电子材料公司
发明人
榛原照男;森良弘;毛利敬史
分类号
B08B3/12(2006.01);H01L21/306(2006.01)
主分类号
B08B3/12(2006.01)
代理机构
代理人
陈翠华
主权项
地址
德国
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