发明名称 电子材料的清洗液及清洗方法
摘要 本发明系有关一种用于电子材料特别是矽晶圆的清洗液,及使用该清洗液的清洗方法。根据本发明之清洗液的特征在于,使用超纯水或加氢水作为原料水,并在氢微泡存在下,结合超音波辐射使用该清洗液。本发明之方法能有效清洗并除去该晶圆表面的颗粒成分等,且避免再污染。
申请公布号 TW200827048 申请公布日期 2008.07.01
申请号 TW096148611 申请日期 2007.12.19
申请人 世创电子材料公司 发明人 榛原照男;森良弘;毛利敬史
分类号 B08B3/12(2006.01);H01L21/306(2006.01) 主分类号 B08B3/12(2006.01)
代理机构 代理人 陈翠华
主权项
地址 德国