| 主权项 |
1.一种气体分布(gas distribution)电极,系适用于一电 浆蚀刻机台中,该气体分布电极具有相对应之第一 表面与第二表面(opposing first and second surfaces),该气 体分布电极包括: 复数个凹部,系被设置于该第一表面且位于该气体 分布电极的中央区域;以及 复数个通孔,系设置于该些凹部之周边,且每一该 些通孔系由该第一表面延伸至该第二表面。 2.如申请专利范围第1项所述之气体分布电极,其中 每一该些凹部之深度大约为气体分布电极厚度的1 /3-2/3。 3.一种电浆蚀刻机台,包括: 一电浆蚀刻反应室; 一电极板,系设置于该电浆蚀刻反应室内,用以承 载一欲进行电浆蚀刻之工作件;以及 一气体分布电极,系具有相对应之第一表面与第二 表面(opposing first and second surfaces),该第一表面系对 应于该电极板, 其中该气体分布电极具有复数个设置于该第一表 面中央区域之凹部以及复数个设置于该些凹部周 边之通孔,并且每一该些通孔系由该第一表面延伸 至该第二表面。 4.如申请专利范围第3项所述之电浆蚀刻机台,其中 每一该些凹部之深度大约为气体分布电极厚度的1 /3-2/3。 5.如申请专利范围第3项所述之电浆蚀刻机台,其进 一步包含一室壁衬垫,用以将该气体分布电极安装 在该电浆蚀刻反应室内。 图式简单说明: 第1图绘示根据本发明一实施例之气体分布电极之 剖面示意图。 第2图绘示第1图气体分布电极之下视图。 第3图绘示第1图气体分布电极100之上视图。 第4图绘示根据本发明一实施例之电浆蚀刻机台之 剖面示意图。 第5图绘示习知平行板式电浆蚀刻反应室的剖面示 意图。 |
