场发射元件及场发射装置之制造方法

摘要

本发明系有关于一种场发射元件之制造方法,其步骤包括:首先,提供一基板,其表面具有一图案化之闸极层。然后,于此基板表面形成一图案化之光阻层,此光阻层系形成一开口。接着,于此光阻层之开口内依序形成一阴极层及一场发射层。最后,移除光阻层。而可得到本发明之场发射元件。本发明更包括使用此场发射元件之场发射装置之制造方法。本发明系有效地提高场发射元件结构精确度、电子发射源精确度并提高显示器的解析度。