发明名称 | 浮力磨粒球抛光技术 | ||
摘要 | 本发明提供一种新的平面抛光加工技术——浮力磨粒球抛光技术,该技术以磨粒球作为抛光工具,由磨粒球的浮力产生抛光压力,可以保证磨粒与工件接触点的压力的均匀性,有效地控制抛光表面材料去除作用的一致性。是从根本上解决了传统抛光技术在提高加工效率和避免工件表面损伤方面的矛盾,并且对环境的要求低。该技术也可以用于平缓变化曲面的抛光。 | ||
申请公布号 | CN101204790A | 申请公布日期 | 2008.06.25 |
申请号 | CN200610155412.8 | 申请日期 | 2006.12.22 |
申请人 | 浙江工业大学 | 发明人 | 戴勇;邓乾发;虞勋杰 |
分类号 | B24B31/00(2006.01) | 主分类号 | B24B31/00(2006.01) |
代理机构 | 杭州天正专利事务所有限公司 | 代理人 | 王兵;袁木棋 |
主权项 | 1.一种新型的抛光方法,包括下列加工步骤:(1)制作浮力磨粒球:将磨粒和发泡材料、胶体的混合物进行搅拌,制成密度小于液体的球体;(2)将浮力磨粒球浸入液体中,制得加工混合液,通过增减浮力磨粒球的数量或体积,调节加工压力;(3)将欲抛光的工件的表面浸没入混合液中,压在浮力磨粒球上;(4)使加工面与混合液相对运动,产生研磨或抛光作用。 | ||
地址 | 310014浙江省杭州市下城区朝晖六区 |