发明名称 SCR防静电保护结构
摘要 本发明公开了一种SCR防静电保护结构,包括P型衬底,在P型衬底上包括有N阱注入区和P阱注入区;在N阱注入区内包括有一个P型注入区和一个N型注入区,N阱注入区内的P型注入区和N型注入区之间被一个场氧化层隔离区隔开;在P阱注入区也包括有一个P型注入区和一个N型注入区,P阱注入区的P型注入区和N型注入区之间有若干二极管单元,在所述N阱注入区内的P型注入区与所述P阱注入区的N型注入区之间的场氧化层隔离区的上面设置有多晶硅,所述多晶硅连接有一个触发电路。本发明有效的降低了可控硅的开启电压,既保证不增加新的工艺条件,又使得用于ESD放电的寄生NPN管与PNP管更容易开启,可以充分发挥其ESD能力。
申请公布号 CN101207122A 申请公布日期 2008.06.25
申请号 CN200610147414.2 申请日期 2006.12.18
申请人 上海华虹NEC电子有限公司 发明人 苏庆
分类号 H01L27/04(2006.01);H01L23/60(2006.01) 主分类号 H01L27/04(2006.01)
代理机构 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人 顾继光
主权项 1.一种SCR防静电保护结构,包括P型衬底,在所述P型衬底上包括有N阱注入区和P阱注入区;在所述N阱注入区内包括有一个P型注入区和一个N型注入区,所述N阱注入区内的P型注入区和N型注入区之间被一个场氧化层隔离区隔开;在所述P阱注入区也包括有一个P型注入区和一个N型注入区,所述P阱注入区的P型注入区和N型注入区之间有若干二极管单元,所述二极管单元由P型注入区和N型注入区以及位于二者之间的场氧化层隔离区组成,其特征在于,在所述N阱注入区内的P型注入区与所述P阱注入区的N型注入区之间的场氧化层隔离区的上面设置有多晶硅,所述多晶硅连接有一个触发电路。
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