一种工件台平衡质量定位系统

摘要

本发明为一种工件台平衡质量定位系统，用于光刻机中工件台的减振，其包括系统框架、基础框架、硅片承载台、气浮系统、纠偏防漂装置及运动限位装置，该系统框架通过气浮系统相对该基础框架运动，该运动限位装置位于系统框架的四个角点位置用以圈定该定位系统在基础框架上作平面运动的极限位置，X向和Y向长行程模块实现硅片承载台相对于系统框架在X、Y方向上的独立运动，纠偏防漂装置用以完成对工件台平衡质量定位系统的跟踪补偿和回零控制。本发明的平衡质量定位系统结构简单，采用特殊设计的纠偏防漂装置能使其运动完全解耦，并且易于制定跟踪控制策略，结合X、Y向力矩补偿装置，可以使硅片承载台作大行程运动的加速度得到进一步的提高。

主权项

1.一种工件台平衡质量定位系统，应用于光刻机中对系统工件台的减振，其包括系统框架、基础框架、硅片承载台、气浮系统、及运动限位装置，该系统框架通过该气浮系统相对该基础框架运动，该运动限位装置位于该系统框架的四个角点位置用以圈定该定位系统在该基础框架上作平面运动的极限位置，其特征在于进一步包括：X向和Y向长行程模块，以实现上述硅片承载台相对于上述系统框架在X、Y两个方向上的独立运动；及纠偏和防漂装置，以完成对工件台平衡质量定位系统的跟踪补偿控制和回零控制。