使用气泡的基材表面处理方法及设备

摘要

从基材表面移除一物质，例如从晶片移除光阻剂，或于基材表面形成一反应产物的技术被揭示。将复数片等间隔、平行的基材的底部垂直的浸入在一液体，将一气体例如臭氧导入在该液体中且在该基材的下方连续形成气泡，使得这些气泡在破灭之前于两相邻基材之间不断往上爬升。在气泡爬升的过程中在基材表面的液体边界层被压缩及更新，促进在该边界层内的气-液-固质传效率，使得其中的反应更快速的被完成，于是基材表面更有效率的被处理。

主权项

1.一种处理基材表面的方法，包含a)将一基材浸入于一液体中，其中该基材仅底部浸入，且该基材是垂直于该液体的液面；b)驱动该基材绕一水平轴旋转，使该基材的外缘轮流地浸入于该液体中；及c)在该液体底部导入一气体或者该液体被溶解有该气体以在该基材表面连续形成气泡，该气泡在该基材表面上爬行离开该液体的液面并继续爬行一段距离，其中该气泡所爬行过的基材表面上的一物质被从该基材表面上移除，或者该气泡所爬行过的基材表面上被形成一物质。