| 发明名称 | 氧化物透明导电层的蚀刻介质 | ||
| 摘要 | 本发明涉及显示器和/或太阳能电池生产中表面蚀刻用、有非牛顿流动行为的、掺杂锡氧化物层的新型一次性蚀刻介质，也涉及其用途。具体地说，它涉及可以用来选择性蚀刻微细结构而不损害或侵蚀相邻区域的相应无微粒组合物。 | ||
| 申请公布号 | CN101208277A | 申请公布日期 | 2008.06.25 |
| 申请号 | CN200680023243.0 | 申请日期 | 2006.06.08 |
| 申请人 | 默克专利股份公司 | 发明人 | W·斯托库姆;A·库贝尔贝克 |
| 分类号 | C03C15/00(2006.01) | 主分类号 | C03C15/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘元金;李连涛 |
| 主权项 | 1.氯化铁(III)或氯化铁(III)六水合物作为氧化物表面蚀刻组合物中的蚀刻成分的用途。 | ||
| 地址 | 德国达姆施塔特 | ||