| 发明名称 | 射线敏感性树脂组合物、层间绝缘膜和微透镜以及它们的形成方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种射线敏感性树脂组合物，其具有高的感射线敏感度，具有在显影工序中即使超过最佳显影时间也能形成良好图案形状的显影裕度，能够容易地形成密合性优良的图案状薄膜，并提供由其形成的层间绝缘膜和微透镜。一种射线敏感性树脂组合物，其包括不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酸酐、含环氧基的不饱和化合物、含酚骨架的不饱和化合物以及上述化合物以外的不饱和化合物的共聚物、和1，2－醌二叠氮化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN101206401A | 申请公布日期 | 2008.06.25 |
| 申请号 | CN200610161738.1 | 申请日期 | 2006.12.19 |
| 申请人 | JSR株式会社 | 发明人 | 花村政晓;高本英司;蓑轮贵树 |
| 分类号 | G03F7/027(2006.01);G03F7/012(2006.01);G03F7/004(2006.01);G03F7/16(2006.01);G03F7/20(2006.01);G03F7/26(2006.01);G02B3/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
| 主权项 | 1.一种射线敏感性树脂组合物，其特征在于包括：[A](a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酸酐、(a2)含环氧基的不饱和化合物、(a3)下述式(I)表示的含酚骨架的不饱和化合物、<img file="A2006101617380002C1.GIF" wi="781" he="559" />其中，R<sup>1</sup>为氢原子或者碳原子数为1-4的烷基，R<sup>2</sup>～R<sup>6</sup>相同或者不同，为氢原子、羟基或者碳原子数为1-4的烷基，B为单键、-COO-、或者-CONH-，m为0-3的整数，其中，R<sup>2</sup>～R<sup>6</sup>至少其中之一为羟基，以及(a4)(a1)、(a2)和(a3)以外的不饱和化合物的共聚物、和[B]1，2-醌二叠氮化合物。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||