| 发明名称 | 一种反应腔室内部工艺状态监控方法 | ||
| 摘要 | 本发明所述的一种反应腔室内部工艺状态监控方法，通过检测反应腔室内部工艺气体的光谱参数，并根据预定的工艺气体的光谱参数与反应腔室内部的工艺参数对应关系得出对应的反应腔室内部的工艺参数。并可在得到的反应腔室内部的工艺参数超出设定的标准时，产生报警信息。在测试与监控过程中不会扰动反应腔室内部，影响测试结果与工艺结果、可实时监控等离子体微观状态，及时阻止由等离子体状态发生变化引起的工艺结果的漂移。并且，可以通过确定等离子体微观状态与工艺结果间的统计关系，建立等离子体微观状态的控制线为设备故障诊断提供参考依据。 | ||
| 申请公布号 | CN101207000A | 申请公布日期 | 2008.06.25 |
| 申请号 | CN200610165462.4 | 申请日期 | 2006.12.20 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 胡立琼 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑立明;郭宗胜 |
| 主权项 | 1.一种反应腔室内部工艺状态监控方法，其特征在于，包括：检测反应腔室内部工艺气体的光谱参数，并根据预定的工艺气体的光谱参数与反应腔室内部的工艺参数对应关系得出对应的反应腔室内部的工艺参数。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 | ||