| 发明名称 | 气态有机化合物的处理装置和处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种不通过加热措施加热就可以对气态有机化合物进行氧化处理的气体处理装置。在该气态有机化合物的处理装置中，在与含有气态有机化合物的气体接触的位置上设置氧化处理部，该氧化处理部是在表面上担载或者填充含有12CaO·7Al<SUB>2</SUB>O<SUB>3</SUB>的氧化催化剂的、没有加热措施在常温下就可以运作的氧化处理部。 | ||
| 申请公布号 | CN101204640A | 申请公布日期 | 2008.06.25 |
| 申请号 | CN200610064269.1 | 申请日期 | 2006.12.20 |
| 申请人 | 株式会社日本氧化 | 发明人 | 鸟本善章 |
| 分类号 | B01D53/86(2006.01);B01D53/72(2006.01);B01J23/02(2006.01) | 主分类号 | B01D53/86(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 孙秀武;李平英 |
| 主权项 | 1.一种气态有机化合物的处理装置，其特征在于：在该气态有机化合物的处理装置中，在与所提供的含有气态有机化合物的气体接触的位置上，设置不需加热措施、在常温即可运作的氧化处理部，所述氧化处理部是在表面上担载或者填充含有12CaO·7Al2O3的氧化催化剂的氧化处理部。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||