发明名称 溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底
摘要 作成一种烧结体,其含有作为成分的氧化铟、氧化锌、氧化锡的1种以上,在该烧结体中含有氧化铪、氧化钽、镧系氧化物、及氧化铋的任1种以上的金属。在该烧结体上安装背板构成溅射靶。利用该溅射靶通过溅射在给定衬底上制造导电膜。该导电膜维持与过去相同程度的透明性,同时实现大的功函数。使用该导电膜,能够实现空穴注入效率提高的EL元件等。
申请公布号 CN100396813C 申请公布日期 2008.06.25
申请号 CN03818642.X 申请日期 2003.05.26
申请人 出光兴产株式会社 发明人 井上一吉;川村久幸
分类号 C23C14/34(2006.01);C04B35/01(2006.01);H05B33/28(2006.01);H05B33/22(2006.01);H05B33/14(2006.01);H01B5/14(2006.01) 主分类号 C23C14/34(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 郭煜;庞立志
主权项 1.一种溅射靶,作为成分含有选自铟、锌、锡的1种以上的金属,其中,作为第三成分,含有选自镧系金属的至少1种以上的金属。
地址 日本东京都