发明名称 |
溅射靶、烧结体及利用它们制造的导电膜、有机EL元件及其所用的衬底 |
摘要 |
作成一种烧结体,其含有作为成分的氧化铟、氧化锌、氧化锡的1种以上,在该烧结体中含有氧化铪、氧化钽、镧系氧化物、及氧化铋的任1种以上的金属。在该烧结体上安装背板构成溅射靶。利用该溅射靶通过溅射在给定衬底上制造导电膜。该导电膜维持与过去相同程度的透明性,同时实现大的功函数。使用该导电膜,能够实现空穴注入效率提高的EL元件等。 |
申请公布号 |
CN100396813C |
申请公布日期 |
2008.06.25 |
申请号 |
CN03818642.X |
申请日期 |
2003.05.26 |
申请人 |
出光兴产株式会社 |
发明人 |
井上一吉;川村久幸 |
分类号 |
C23C14/34(2006.01);C04B35/01(2006.01);H05B33/28(2006.01);H05B33/22(2006.01);H05B33/14(2006.01);H01B5/14(2006.01) |
主分类号 |
C23C14/34(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
郭煜;庞立志 |
主权项 |
1.一种溅射靶,作为成分含有选自铟、锌、锡的1种以上的金属,其中,作为第三成分,含有选自镧系金属的至少1种以上的金属。 |
地址 |
日本东京都 |