使用二次工艺平面快速传导冷却

摘要

本发明描述了一种用于热处理衬底的方法和装置。该装置包括配置为通过磁驱动线性移动和/或旋转移动的衬底支架。该衬底支架还配置为接收辐射热源在腔室的一部分中提供加热区。包括冷却板的有源冷却区与加热区相对设置。衬底可以在该两个区域之间移动以便于衬底的快速可控加热和冷却。

主权项

1.一种衬底处理装置，包括：腔室；设置在所述腔室中的磁驱动衬底支架，其包括配置为在其上表面上支撑所述衬底的环形体；与所述环形体耦接的环形延伸；以及与所述环形体耦合的窗口，其中所述窗口设置在衬底下方并透光和透热。