| 摘要 |
一种利用多种波长之辐射而固化粘合二片基底间之双重固化密封胶、以形成液晶显示器面板的系统,其中该多种波长之辐射以来自于单个雷射之输出为佳。其中在固化密封胶之前液晶已经就位,从而不允许促使密封胶固化的高温烘烤。出自该单个辐射源的多个波长通过对基频镭射的倍频以及混合而形成三倍频。通常需要UV波长以固化密封胶的光解成分,从而在本发明中来自约为1微米(1000nm)波长雷射的基频被三倍频。沿密封胶的整个周边区扫描UV。其它波长,典型地为红外波可能还有该红外波的第一加倍频(第一谐波),被独立地收集并且分离地只沿着那些由电路线遮蔽的密封胶区域扫描。这些金属线部分地吸收这些波长以造成在该系统中使用的双成分密封胶的热引发。 |
| 主权项 |
1.一种基底连接系统,藉以使用密封胶沿一共同周 边区连接一目标的二基底,其中该基底连接系统包 括: 至少二个电磁辐射源,其中该电磁辐射源之每一者 具有各自不同的基频,该些基频之中至少二个系分 别对应于电磁频谱中的紫外线区以及比紫外线波 长较长之区域,该各自具有不同基频之辐射源经由 扫描装置而被导至该目标之选定区域上,其中该扫 描装置供该辐射源之每一者使用。 2.如申请专利范围第1项所述之基底连接系统,其中 所述目标至少包括液晶显示器面板。 3.一种基底连接系统,藉以使用密封胶沿一共同的 周边区连接一目标的二基底,其中该基底连底连接 系统至少包括: a)一在一基频下的单色电磁辐射源; b)一第一非线性元件,用于对该电磁辐射之基频加 以倍频作用; c)一第二非线性元件,用于对该电磁辐射之基频加 以三倍频作用; d)至少二独立的分离装置,用于在空间上把该基频 辐射与该经倍频作用之辐射及该经三倍频作用之 辐射予以分离;及 e)至少二独立的扫描装置,用以独立对该基频、该 经倍频作用及该经三倍频作用的辐射向该目标之 经选定区域移动的动作加以导引及控制,其中该经 三倍频作用的辐射系对应于电磁频谱中的紫外线 区的辐射。 4.如申请专利范围第3项所述之基底连接系统,其中 所述独立的分离装置包括分色镜。 5.如申请专利范围第3项所述之基底连接系统,其中 每个所述独立的扫描装置包括至少一扫描镜。 6.如申请专利范围第3项所述之基底连接系统,其中 单色源是脉冲式雷射。 7.如申请专利范围第6项所述之基底连接系统,其中 所述脉冲式雷射的所述电磁辐射之基频的波长小 于1500nm。 8.如申请专利范围第6项所述之基底连接系统,其中 所述脉冲式雷射是Nd3+-YAG雷射。 9.如申请专利范围第6项所述之基底连接系统,其中 所述脉冲式雷射是Nd3+-YLF雷射。 10.如申请专利范围第3项所述之基底连接系统,其 中所述基频辐射和所述三倍频辐射分别为电磁频 谱中的近红外线区和紫外线区的辐射。 11.如申请专利范围第3项所述之基底连接系统,其 中所述目标由沿着所述共同的周边区接合的所述 基底组成,并且其中一个独立的扫描装置运行成用 三倍频的辐射扫描所述共同的周边区。 12.如申请专利范围第11项所述之基底连接系统,其 中另一个独立的扫描装置运行成用所述基频的以 及所述加倍频的辐射扫描所述共同周边区的选定 位置,并且在所述选定位置放置双重固化的密封胶 。 13.如申请专利范围第12项所述之基底连接系统,其 中所述选定位置的至少一部分会因辐射加热而升 温。 14.如申请专利范围第13项所述之基底连接系统,其 中在所述选定位置上扫描所述基频的和加倍频的 辐射,而在所述目标的全部共同周边区上扫描所述 三倍频的辐射。 15.如申请专利范围第3项所述之基底连接系统,其 中所述目标包括液晶显示器。 图式简单说明: 图1a示意示出二片基底沿共同的周边区接合并且 相互粘连。这些基底构成液晶面板,其选定的周边 区金属化从而对入射辐射是不透明。 图1b是沿图1的面板的A-A线的剖面图,示出含有密封 胶和资料/闸极线二者的区域。 图2是依据本发明的系统的示意图,其中包括一个 雷射,通过使用非线性混合晶体以及可在不同扫描 率下独立扫描的扫描镜该雷射能发送几种波长(频 率),以把二种或更多的频率发送到面板的选定部 位上,在这些部位下面存在需要光解式地或者因遮 蔽需要热式地固化的密封胶。 图3示出在图2的面板的周边区上来回移动的以便 造成密封胶的固化的辐射的二条扫描束中每条束 的轨迹。 |
