发明名称 制备二烷氧基吩及伸烷二氧基吩之方法
摘要 本发明相关于制备二烷基吩及伸烷二氧基吩之方法,以二烷氧基吩二羧酸与伸烷二氧基吩二羧酸,分别在沸点高于产物且无含氮硷存在之有机溶剂中,进行脱羧基反应而得高纯度、高产率之产物。
申请公布号 TWI298069 申请公布日期 2008.06.21
申请号 TW090107289 申请日期 2001.03.28
申请人 拜耳厂股份有限公司 发明人 阮格尔;乔费柯
分类号 C07D495/04(200601AFI20080223VHTW);C07D333/32(200601ALI20080223VHTW) 主分类号 C07D495/04(200601AFI20080223VHTW)
代理机构 代理人 蔡中曾 台北市大安区敦化南路1段245号8楼
主权项 1.一种制备3,4-二烷氧基吩或3,4-伸烷二氧基吩 之方法,一般式为(I)或(II) 经由将原3,4-二烷氧基或3,4-伸烷基二氧基-2,5-吩 二羧酸进行去羧基反应,分别为式(III)或式(IV): 其中 R1与R2为直链或支链烷基,具1-15个碳原子, 以及 X为选择性经烷基取代之-(CH2)n-,n为整数1-12, 其特征在于 去羧基反应是于沸点较去羧基产物高之溶剂或稀 释剂中进行,且其不属于芳香胺族,以及溶剂或稀 释剂系选自矽酮油、酮、醚、亚、或醇,及 最终产物可藉由蒸馏方式,自沸点较高之溶剂或稀 释剂中分离出。 2.根据专利申请范围第1项之方法,其特征在于溶剂 或稀释剂沸点至少高出5℃。 3.根据专利申请范围第1项之方法,其特征在于所使 用之溶剂或稀释液为Baysilon(获自Bayer AG之商品) 、聚乙二醇、酸酯、二芳基醚、四伸甲基、 二芳基及二芳基亚。 4.根据专利申请范围第1项之方法,其特征在于去羧 基反应于重金属盐类存在情况下进行。 5.根据专利申请范围第4项之方法,其特征在于重金 属盐类为铜盐类。 6.根据专利申请范围第4或5项之方法,其特征在于 去羧基反应于温度范围100-180℃下进行。 7.根据专利申请范围第1项之方法,其特征在于所制 备之产物为3,4-二甲氧基吩或3,4-伸乙烷二氧基 吩。
地址 德国
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