ARRANGEMENT AND A METHOD FOR CONTROLLING DRYING PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF SEMICONDUCTOR COMPONENTS
摘要
<p>Anordnung und Verfahren zur Steuerung von Trocknungsprozessen von Wafern (2) die in einer Trockenkammer (1 ) platziert sind, die eine Trocknergaseinheit (3) nach Maßgabe einer Gaskonzentrationsmesseinheit (4) zur Messung der aktuellen Gaskonzentration in der Trockenkammer (1 ) mit einem gasförmigen Lösemittel befüllt, wobei die Gaskonzentrationsmesseinheit (4) nach Art eines NDIR-Messgerätes ausgebildet ist, welches die Konzentration eines gasförmigen Lösemittels aus der Gruppe der Alkohole zum Trocknen der Wafer (2) überwacht.</p>
