摘要 |
Au moins une zone en creux est formée dans un empilement (3) d'au moins une couche supérieure (2) et une couche inférieure (4). La couche supérieure (2) est structurée pour former au moins une première région en creux traversant ladite couche supérieure (2). La première région en creux est prolongée par une seconde région en creux formée dans la couche inférieure (4), par gravure à travers un masque de gravure formé sur la couche supérieure (2) structurée. Le masque de gravure est formé par une couche en résine (8), positivement photosensible à un rayonnement optique (9) d'une longueur d'onde prédéterminée, exposée audit rayonnement optique (9), à travers l'empilement (3) et révélée. Les couches inférieure (4) et supérieure (2) de l'empilement (3) sont respectivement transparente et opaque à ladite longueur d'onde prédéterminée, de sorte que la couche supérieure (2) structurée sert de masque d'insolation pour la couche en résine photosensible (8).
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