Verfahren zur Herstellung einer Metallisierungsschicht mit einer mit Stickstoff angereicherten Barrierenschicht mit kleinem epsilon,申请号DE20031019136-传众专利搜索

发明名称	Verfahren zur Herstellung einer Metallisierungsschicht mit einer mit Stickstoff angereicherten Barrierenschicht mit kleinem epsilon
摘要
申请公布号	DE10319136(B4)	申请公布日期	2008.06.12
申请号	DE20031019136	申请日期	2003.04.28
申请人	ADVANCED MICRO DEVICES INC.	发明人	RUELKE, HARTMUT;HOHAGE, JOERG;WERNER, THOMAS;KIENE, MICHAEL
分类号	H01L21/768;H01L21/3105;H01L21/311;H01L21/314	主分类号	H01L21/768
代理机构		代理人
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