| 主权项 |
1.一种冲洗系统,其中有一用于接收一产品于其内 的容器放置于一工作台上,该容器的内部系由预定 的气体来加以冲洗,该冲洗系统包含有: 一气体输入埠口,设置于该容器上面对于该工作台 的一表面上,并系在将该预定之气体供应到该容器 的内部时使用之; 一气体输出埠口,设置于该容器上面对于该工作台 的该表面上,并系在将该容器内的气体排放至该容 器的外部时使用之; 一工作台侧气体供应埠口,设置于该工作台上面对 于该容器的一表面上,并具有一气体输入系统,系 配合于该气体输入埠口将该预定气体供应至该容 器的内部;以及 一工作台侧气体输出埠口,设置于该工作台上面对 于该容器的该表面上,并具有一气体输出系统,系 配合于该气体输出埠口将该容器内的气体自该容 器的内部排出至该容器的外部,其中该气体输入系 统的内部与该气体输入系统的外部间是封闭不相 通的,以及 其中该气体输出系统的内部系透过一连通路径而 与该气体输出系统的外部相连通。 2.根据申请专利范围第1项所述之冲洗系统, 其中该气体输入系统系藉由设置一可在该气体输 入埠口与该工作台侧气体输入埠口之间产生密封 作用之构件而相对于外部形成一封闭状态,以及 其中该气体输出系统系藉由不设置可在该气体输 出埠口与该工作台侧气体输出埠口之间产生该密 封作用之构件而在该气体输出埠口与该工作台侧 气体输出埠口之间形成该连通路径。 3.根据申请专利范围第1项所述之冲洗系统,进一步 包含有一阀状构件,其可在该气体输出系统的内部 压力与该气体输出系统的外部压力间有一给定之 压力差时,将该气体自该容器外部导入至该气体输 出系统的内部。 4.一种面对于一容器的冲洗作业工作台,该容器收 容有一产品于其内,且包含有一表面,其设有一气 体输入埠口,系供在要将一预定气体供应至该容器 之内部时使用之,以及一气体输出埠口,系供在要 将存在于该容器内部的气体排出至外部时使用之, 其中该容器的该一表面系放置于该工作台上,以供 以该预定气体冲洗该容器内部,该冲洗作业工作台 包含有: 一工作台侧气体供应埠口,设置于该工作台上面对 于该容器的表面上,并具有一气体输入系统,系配 合于该气体输入埠口将该预定气体供应至该容器 的内部;以及 一工作台侧气体输出埠口,设置于该工作台上面对 于该容器的表面上,并具有一气体输出系统,系配 合于该气体输出埠口将该容器内的气体加以自该 容器的内部排出至该容器的外部, 其中当该容器放置于该工作台上而形成该气体输 入系统时,该气体输入系统的内部与该气体输入系 统的外部间是封闭不相通的,以及 其中该同时形成的气体输出系统的内容物系透过 一连通路径与气体输出系统的外部相连通。 5.根据申请专利范围第4项所述之冲洗作业工作台, 其中该气体输入系统系藉由设置一可在该气体输 入埠口与该工作台侧气体输入埠口间产生密封作 用之构件而相对于外部形成一封闭状态,以及 其中该气体输出系统系藉由不设置可在该气体输 出埠口与该工作台侧气体输出埠口之间产生该密 封作用之构件而在该气体输出埠口与该工作台侧 气体输出埠口之间形成该连通路径。 6.根据申请专利范围第4项所述之冲洗作业工作台, 进一步包含有一阀状构件,其可在该气体输出系统 的内部压力与该气体输出系统的外部压力间有一 给定之压力差时,将该气体自该容器外部导入至该 气体输出系统的内部。 图式简单说明: 第1图系为一图式,示意地显示出根据本发明实施 例的冲洗系统内的前开式晶圆盒主要部位及载入 埠口的结构。 第2图系为一图式,显示出第1图中所示之实施例的 改良例。 第3图系为一图式,显示出第1图中所示之实施例的 另一改良例。 第4图系为一图式,显示出根据本发明实施例的冲 洗系统内的前开式晶圆盒主要部位及载入埠口的 结构。 第5图系为一侧视图,整体地显示出可供本发明及 习用技艺应用至其上的一般半导体晶圆处理装置 的示意结构。 第6图系为一图式,示意地显示出由习用技艺之前 开式晶圆盒及载入埠口所构成之冲洗系统的主要 部位。 |
