| 主权项 |
1.一种非腐蚀性清洁组成物,包含: (a)水, (b)至少一三羧酸及至少一羧酸之一协同组合,其中 该组成物中之至少一三羧酸及至少一羧酸的协同 组合重量比例约1:5至约5:1;以及 其中该至少一羧酸具有以下化学式: R9-(CR7R8)qCO2H 其中q为范围自1至4之整数;R7及R8分别系独立选自 氢、羟、硫醇、具有1至6个原子之脂环或环硫代 醚、具有1至4个碳原子之低级烷氧、具有1至4个碳 原子之低级分支或直链烷基、具有3至6个碳原子 之环烷基、苯基、芳基、硝基以及卤素所构成之 群组;以及R9系选自氢、羧酸、羟、硫醇、具有1至 6个原子之脂环或环硫代醚、具有1至4个碳原子之 低级烷氧、具有1至4个碳原子之低级分支或直链 烷基、具有3至6个碳原子之环烷基、苯基、芳基 、硝基及卤素所构成之群组。 2.如申请专利范围第1项之组成物,其中该组成物自 一基板移除一蚀刻残余物。 3.如申请专利范围第2项之组成物,其中该蚀刻残余 物系一电浆蚀刻残余物。 4.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一三 羧酸及至少一羧酸之协同组合,相较于仅单独只有 三羧酸或羧酸之清洁组成物,提供较强的清洁组成 物。 5.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一三 羧酸具有以下化学式: 其中n、m及p分别独立为1至6之范围的整数;R、R1、R 2、R3、R4、R5以及R6分别系独立选自氢、羟、硫醇 、具有1至6个原子之脂环或环硫代醚、具有1至4个 碳原子之低级烷氧、具有1至4个碳原子之低级分 支或直链烷基、具有3至6个碳原子之环烷基、苯 基、芳基、硝基以及卤素所构成之群组。 6.如申请专利范围第5项之组成物,其中具有该化学 式之至少一三羧酸系选自丙三羧酸、-甲基丙三 羧酸、柠檬酸、硝基甲烷三丙酸以及2-(羧基甲硫) 琥珀酸所构成之群组。 7.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一三 羧酸系以约0.01重量%至约10重量%的量存在于该组 成物中。 8.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一三 羧酸系以约0.05重量%至约3重量%的量存在于该组成 物中。 9.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一三 羧酸系以约0.1重量%至约2重量%的量存在于该组成 物中。 10.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一 三羧酸具有介于约3至约6之间的pKa値。 11.如申请专利范围第1项之组成物,其中具有该化 学式之至少一羧酸系选自甲酸、乙酸、丙酸、丁 酸、戊酸、三甲基乙酸、异戊酸、琥珀酸、甲基 琥珀酸、戊二酸、辛二酸、羟基乙酸、乳酸、2- 羟基异丁酸、3-羟基丁酸、苹果酸、柠苹酸、酒 石酸、乙氧基醋酸、四氢-3-糠酸、二羟基乙酸、 甲硫琥珀酸、硫羟乳酸、环己乙酸、二环己乙酸 以及1,1-环己基二乙酸所构成之群组。 12.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一 羧酸系以约0.01重量%至约10重量%的量存在于该组 成物中。 13.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一 羧酸系以0.05重量%至约3重量%的量存在于该组成物 中。 14.如申请专利范围第1项之组成物,其中该至少一 羧酸系以约0.1重量%至约2重量%的量存在于该组成 物中。 15.如申请专利范围第1项之组成物,其中该组成物 中之至少一三羧酸及至少一羧酸的协同组合重量 比例约1:3至约3:1。 16.如申请专利范围第1项之组成物,其中该组成物 中之至少一三羧酸及至少一羧酸的协同组合重量 比例约1:1。 17.如申请专利范围第1项之组成物,进一步包含至 少一具有以下化学式之羟铵化合物: r(NR10R11R12OH)+(X-r) 其中R10、R11与R12分别选自氢、具有1至4个碳原子 之低级烷基、具有1至4个碳原子之低级烷氧基、 具有1至4个碳原子之低级烷基、羟基以及经羟基 取代之具有1至4个碳原子的低级烷基,附带条件为R 10、R11及R12中至少两者为氢、低级烷基或低级烷 氧基之一,且其中X为一及羟基铵阳离子或四级铵 阳离子形成水溶性盐的阴离子部分,以及r系X之原 子价且系1至3。 18.如申请专利范围第17项之组成物,其中该至少一 羟铵化合物系择自下列所构成之群组:羟基铵盐、 硝酸羟基铵、硫酸羟基铵、磷酸羟基铵、氯化羟 基铵、草酸羟基铵、柠檬酸羟基铵、氟化羟基铵 、N,N二乙基硫酸羟铵以及N,N二乙基硝酸羟铵。 19.如申请专利范围第17项之组成物,其中该至少一 羟铵化合物系以约0.001重量%至约10重量%的量存在 于该组成物中。 20.如申请专利范围第1项之组成物,进一步包含至 少一硷性化合物。 21.如申请专利范围第20项之组成物,该至少一硷性 化合物系择自胺、四级羟基铵及其任意组合所构 成之群组。 22.如申请专利范围第20项之组成物,其中该硷性化 合物系以约0.001重量%至约1重量%的量存在于该组 成物中。 23.如申请专利范围第1项之组成物,进一步包含至 少一溶剂。 24.如申请专利范围第23项之组成物,其中该至少一 溶剂系择自多醇化合物、乙二醇醚及其任意组合 所构成之群组。 25.如申请专利范围第23项之组成物,其中该溶剂系 以约0.1重量%至约30重量%的量存在于该组成物中。 26.如申请专利范围第1项之组成物,进一步包含至 少一添加剂,该添加剂系择自螯合化合物、表面活 化剂及其任意组合所构成之群组。 27.如申请专利范围第26项之组成物,其中该溶剂系 以约0.001重量%至约10重量%的量存在于该组成物中 。 28.一种用于移除一基板上电浆蚀刻残余物之非腐 蚀性清洁组成物,该组成物包含水,以及乳酸及柠 檬酸之一协同组合,其中该柠檬酸及乳酸之协同组 合在该组成物中系占约3:1至约1:3的重量比。 29.如申请专利范围第28项之组成物,其中水系以约 90重量%至约99.98重量%的量存在于该组成物中。 30.如申请专利范围第28项之组成物,其中该柠檬酸 及乳酸之协同组合在该组成物中系占约1:1的重量 比。 31.如申请专利范围第28项之组成物,其中该乳酸系 以约0.4重量%至约1.5重量%的量存在于该组成物中 。 32.如申请专利范围第28项之组成物,其中该柠檬酸 系以约0.5重量%至约1.6重量%的量存在于该组成物 中。 33.如申请专利范围第28项之组成物,进一步包含至 少一羟铵化合物,该羟铵化合物系以约0.001重量%至 约10重量%的量存在于该组成物中。 34.如申请专利范围第33项之组成物,其中该羟铵化 合物为硫酸羟铵。 35.如申请专利范围第34项之组成物,进一步包含至 少一硷性化合物,该硷性化合物系以约0.001重量%至 约1重量%的量存在于该组成物中。 36.如申请专利范围第35项之组成物,其中该硷性化 合物为四甲基羟铵。 37.一种用于移除基板上电浆蚀刻残余物之方法,该 方法包含下述之步骤: a)提供一具有电浆蚀刻残余物之基板; b)以非腐蚀性清洁组成物接触该基板,该清洁组成 物包含水以及至少一三羧酸及至少一羧酸之协同 组合,其中该组成物中之至少一三羧酸及至少一羧 酸的协同组合重量比例约1:5至约5:1,且其中该残余 物系自该基板移除;以及 c)冲洗该基板。 38.如申请专利范围第37项之方法,其中,该基板为一 新基板或一旧基板。 39.如申请专利范围第37项之方法,其中该清洁组成 物之温度为约20℃至约60℃。 40.如申请专利范围第37项之方法,其中该方法具有 约10秒至约30分钟的清洁时间。 41.如申请专利范围第37项之方法,其中该基板系以 选自下列所构成之群组的方法与该清洁组成物接 触:浸渍、喷洒冲刷、流动及其任意组合。 42.如申请专利范围第37项之方法,其中该方法系与 选自下列所构成之群组中之至少一光阻剂剥离步 骤的组合来施行:乾燥剥离、O2电浆蚀刻、臭氧气 态处理、氟电浆处理、热H2气处理及其任意组合 。 43.如申请专利范围第37项之方法,其中该方法系与 至少一有机湿式剥离步骤的组合来施行。 44.如申请专利范围第43项之方法,其中该至少一有 机湿式剥离步骤系以经臭氧化的水来处理。 45.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一三 羧酸及至少一羧酸之协同组合,相较于仅单独具有 三羧酸或羧酸之清洁组成物,对该基板提供较强的 清洁作用。 46.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一三 羧酸具有以下化学式: 其中n、m及p分别独立为1至6之范围的整数;R、R1、R 2、R3、R4、R5及R6分别为独立选自氢、羟、硫醇、 具有1至6个原子之脂环或环硫代醚、具有1至4个碳 原子之低级烷氧、具有1至4个碳原子之低级分支 或直链烷基、具有3至6个碳原子之环烷基、苯基 、芳基、硝基以及卤素所构成之群组。 47.如申请专利范围第46项之方法,其中该具有该化 学式之至少一三羧酸系选自丙三羧酸、-甲基丙 三羧酸、柠檬酸、硝基甲烷三丙酸以及2-(羧基甲 硫)琥珀酸所构成之群组。 48.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一三 羧酸系以约0.01重量%至约10重量%的量存在于该组 成物中。 49.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一三 羧酸系以约0.05重量%至约3重量%的量存在于该组成 物中。 50.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一三 羧酸系以约0.1重量%至约2重量%的量存在于该组成 物中。 51.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一三 羧酸具有介于约3至约6间的pKa値。 52.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一羧 酸具有以下化学式: R9-(CR7R8)qCO2H 其中q为范围自0至6之整数;R7及R8分别系独立选自 氢、羟、硫醇、具有1至6个原子之脂环或环硫代 醚、具有1至4个碳原子之低级烷氧、具有1至4个碳 原子之低级分支或直链烷基、具有3至6个碳原子 之环烷基、苯基、芳基、硝基以及卤素所构成之 群组;以及R9系选自氢、羧酸、羟、硫醇、具有1至 6个原子之脂环或环硫代醚、具有1至4个碳原子之 低级烷氧、具有1至4个碳原子之低级分支或直链 烷基、具有3至6个碳原子之环烷基、苯基、芳基 、硝基及卤素所构成之群组。 53.如申请专利范围第52项之方法,其中具有该化学 式之至少一羧酸系选自甲酸、乙酸、丙酸、丁酸 、戊酸、三甲基乙酸、异戊酸、琥珀酸、甲基琥 珀酸、戊二酸、辛二酸、羟基乙酸、乳酸、2-羟 基异丁酸、3-羟基丁酸、苹果酸、柠苹酸、酒石 酸、乙氧基醋酸、四氢-3-糠酸、二羟基乙酸、甲 硫琥珀酸、硫羟乳酸、环己乙酸、二环己乙酸以 及1,1-环己基二乙酸所构成之群组。 54.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一羧 酸系以约0.05重量%至约3重量%的量存在于该组成物 中。 55.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一羧 酸系以约0.05重量%至约3重量%的量存在于该组成物 中。 56.如申请专利范围第37项之方法,其中该至少一羧 酸系以约0.1重量%至约2重量%的量存在于该组成物 中。 57.如申请专利范围第37项之方法,其中该组成物中 之至少一三羧酸及至少一羧酸的协同组合重量比 例约1:3至约3:1。 58.如申请专利范围第37项之方法,其中该组成物中 之至少一三羧酸及至少一羧酸的协同组合重量比 例约1:1。 59.如申请专利范围第37项之方法,进一步包含至少 一具有以下化学式之羟铵化合物: r(NR10R11R12OH)+(X-r) 其中,R10、R11及R12分别择自氢、具有1至4个碳原子 之低级烷基、具有1至4个碳原子之低级烷氧基、 具有1至4个碳原子之低级烷基、羟基以及经羟基 取代之具有1至4个碳原子的低级烷基,附带条件为R 10、R11及R12中至少两者为氢、低级烷基或低级烷 氧基之一,且其中X为一与羟基铵阳离子或四级铵 阳离子形成水溶性盐的阴离子部份,以及r系X之原 子价且系1至3。 60.如申请专利范围第59项之方法,其中该至少一羟 铵化合物系择自下列所构成之群组:羟基铵盐、硝 酸羟基铵、硫酸羟基铵、磷酸羟基铵、氯化羟基 铵、草酸羟基铵、柠檬酸羟基铵、氟化羟基铵、N ,N二乙基硫酸羟铵以及N,N二乙基硝酸羟铵。 61.如申请专利范围第59项之方法,其中该至少一羟 铵化合物系以约0.001重量%至约10重量%的量存在于 该组成物中。 |
