| 摘要 |
一种线性滑轨,包含:二滚柱单元、二滚珠单元、一导轨,及一滑块,每一滚柱单元分别具有数个连接成串的滚柱,每一滚珠单元分别具有数颗连接成串的滚珠,该导轨具有二导槽部,该滑块具有一与该导轨平行设置的平行部、二分别由该平行部两相反侧同向延伸的侧端部、一由该平行部与该等侧端部共同界定出的滑槽、二分别形成于该等侧端部而位于该滑槽内且分别对应该等导槽部的滑接部、二滚柱循环孔,及二滚珠循环孔,该滑槽是供该导轨穿过,藉此,该线性滑轨可以承受大的负载,且降低成本。 |
| 主权项 |
1.一种线性滑轨,包含: 二滚柱单元,分别具有数个连接成串的滚柱; 二滚珠单元,分别具有数颗连接成串的滚珠; 一导轨,具有二导槽部;及 一滑块,具有一与该导轨平行设置的平行部、二分 别由该平行部两相反侧同向延伸的侧端部、一由 该平行部与该等侧端部共同界定出的滑槽、二分 别形成于该等侧端部而位于该滑槽内且分别对应 该等导槽部的滑接部、二滚柱循环孔,及二滚珠循 环孔,该滑槽是供该导轨穿过;当该滑块于该导轨 上滑动时,该等滚柱是接触该等滑接部与该等导槽 部而位于两者之间,并由该等滚柱循环孔回流,且 该等滚珠是接触该导轨与该滑块而位于两者之间, 并由该等滚珠循环孔回流。 2.依据申请专利范围第1项所述之线性滑轨,其中, 该导轨更具有一邻近且平行该平行部的第一面、 一与该第一面相背设置的第二面、二第一滚柱接 触面,及二第一滚珠接触面,该等第一、二滚柱接 触面是呈一平面,每一滚柱的一柱身是沿一长方向 等直径延伸的一圆柱体,且可与该等第一、二滚柱 接触面配合而呈线接触,每一滚珠是呈一球体,且 该等第一、二滚珠接触面是呈一弧面该等导槽部 是位于该第一、二面之间且相背设置,该等第一滚 柱接触面是分别位于该等导槽部,该滑块更具有二 分别与该等第一滚柱接触面相对的第二滚柱接触 面,及二分别与该等第一滚珠接触面相对的第二滚 珠接触面,该等第二滚柱接触面是分别位于该等滑 接部,该等滚柱循环孔是分别对应该等第一、二滚 柱接触面,该等滚珠循环孔是分别对应该等第一、 二滚珠接触面。 3.依据申请专利范围第2项所述之线性滑轨,其中, 该等第一滚柱接触面是分别位于该等导槽部邻近 该第一面,且该等滚柱循环孔是分别位于该等侧端 部而远离该平行部。 4.依据申请专利范围第3项所述之线性滑轨,其中, 该等第一滚珠接触面是位于该第一面,该等第二滚 珠接触面是位于该平行部的一内平面,且该等滚珠 循环孔是位于该平行部。 5.依据申请专利范围第3项所述之线性滑轨,其中, 该等第一滚珠接触面是分别位于该等导槽部邻近 该第二面,且该等滚珠循环孔是分别位于该等侧端 部而邻近该平行部。 6.依据申请专利范围第2项所述之线性滑轨,其中, 该等第一滚柱接触面是分别位于该等导槽部邻近 该第二面,且该等滚柱循环孔是分别位于该等侧端 部而邻近该平行部。 7.依据申请专利范围第6项所述之线性滑轨,其中, 该等第一滚珠接触面是分别位于该等导槽部邻近 该第一面,该等第二滚珠接触面是分别位于该滑接 部,且该等滚珠循环孔是分别位于该等侧端部而远 离该平行部。 图式简单说明: 图1是一侧视剖视示意图,说明现有一种采用数颗 滚珠设计的线性滑轨受一重力; 图2是一侧视剖视示意图,说明现有第二种采用数 颗滚珠设计线性滑轨受一拉力; 图3是一侧视剖视示意图,说明现有另一种线性滑 轨是采用数颗滚柱设计; 图4是图3视图的一局部放大图,说明该等滚柱的一 柱身是采用抛物线的弧面设计; 图5是本发明线性滑轨一第一较佳实施例的立体组 合示意图; 图6是一侧视剖视示意图,说明该第一较佳实施例 承受一外力; 图7是该第一较佳实施例的一导轨的一侧视示意图 ; 图8是本发明线性滑轨一第二较佳实施例的立体组 合示意图; 图9是一侧视剖视示意图,说明该第二较佳实施例 承受一外力; 图10是该第二较佳实施例的一导轨的一侧视示意 图; 图11是本发明直线导轨一第三较佳实施例的立体 组合示意图; 图12是一侧视剖视示意图,说明该第三较佳实施例 承受一外力;及 图13是该第三较佳实施例的一导轨的一侧视示意 图。 |
