发明名称 |
双区分布布拉格反射镜半导体激光器结构和制备方法 |
摘要 |
一种双区分布布拉格反射镜半导体激光器的结构和制备方法,使用了工艺相对三区DBR-LD简单一些的双区结构,即只有增益区和光栅区,舍去了相位区,其结构由N型电极、N型GaAs衬底、N型GaAs缓冲层、N型AlGaAs下盖层、非掺AlGaAs下波导层、非掺AlGaAs下垒层、非掺AlGaInAs有源层、非掺AlGaAs上垒层、非掺AlGaAs上波导层、非掺GaInP光栅层、非掺AlGaAs上盖层、P型AlGaAs上盖层、P型GaAs帽层、SiO<SUB>2</SUB>层、P型电极、绝缘沟组成。本发明的制备方法包括材料生长和后工艺制作。 |
申请公布号 |
CN101197490A |
申请公布日期 |
2008.06.11 |
申请号 |
CN200610164883.5 |
申请日期 |
2006.12.07 |
申请人 |
中国科学院半导体研究所 |
发明人 |
付生辉;钟源;宋国锋;陈良惠 |
分类号 |
H01S5/125(2006.01);H01S5/187(2006.01);H01S5/323(2006.01);H01S5/343(2006.01);H01S5/22(2006.01) |
主分类号 |
H01S5/125(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
周长兴 |
主权项 |
1.一种双区分布布拉格反射镜半导体激光器的结构,其结构为:一N型电极,该N型电极上依次为N型GaAs衬底;N型GaAs缓冲层;N型AlGaAs下盖层;非掺AlGaAs下波导层;非掺AlGaAs下垒层;非掺AlGaInAs有源层;非掺AlGaAs上垒层;非掺AlGaAs上波导层;非掺GaInP光栅层;非掺AlGaAs上盖层;P型AlGaAs上盖层;P型GaAs帽层;SiO2层,在P型GaAs帽层两侧的上面;P型电极,在SiO2层和P型GaAs帽层上;绝缘沟,在P型电极上。 |
地址 |
100083北京市海淀区清华东路甲35号 |