发明名称 使用激光对热敏介电材料进行精抛光/精密结构化的方法
摘要 本发明涉及一种对热敏介电材料特别是热膨胀系数小的介电材料使用激光辐射进行精抛光/精密结构化的方法。使用这种方法,将强超短波激光照射到材料待加工的表面上,激光对材料表面的作用时间在10<SUP>-13</SUP>秒至10<SUP>-11</SUP>秒范围内,激光脉冲能量控制在烧蚀极限以下,但是足可以调节库仑爆炸的发生。采用按照本发明的方法,材料在纳米范围内的去除量利用超短波激光脉冲在皮秒和亚皮秒时间范围中就可以完成,其间,在精密烧蚀工艺步骤(去除量在烧蚀极限以下),材料表面即被精抛光。由于对等待加工表面的激光辐射作用时间极短,温升很小,仅在十几度左右。
申请公布号 CN101198433A 申请公布日期 2008.06.11
申请号 CN200680013349.2 申请日期 2006.03.21
申请人 柏林联合研究院 发明人 卢茨·埃伦特劳特;因戈尔夫·赫特尔;阿尔卡季·罗森费尔德
分类号 B23K26/06(2006.01);B23K26/00(2006.01) 主分类号 B23K26/06(2006.01)
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 代理人 王新华
主权项 1.使用激光对热敏介电材料进行精抛光/精密结构化的方法,其特征在于:将强超短波激光照射到材料待加工的表面上,激光对材料表面的作用时间在10-13秒至10-11秒范围内,激光脉冲能量控制在电蚀极限以下,但是足可以调节库仑爆炸的发生。
地址 德国柏林