发明名称 |
存储器单元结构及磁阻性随机存取存储器结构 |
摘要 |
一种存储器单元结构及磁阻性随机存取存储结构,包括:一存储器叠层,具有一下电极及一上电极;一导体延伸层,电性连接下电极,且具有一延伸部,其自存储器叠层横向延伸,该存储器叠层形成于导体延伸层的主要部分上;一数据控制线,用以控制该存储器叠层的存储状态,其直接形成于存储器叠层和导体延伸层的主要部分下;一下金属层,形成于延伸部之下,且电性耦接于一开关装置,以读取存储器叠层的存储状态;以及一介层插塞结构,直接连接延伸部至下金属层,且直接横向相邻于数据控制线。 |
申请公布号 |
CN101197345A |
申请公布日期 |
2008.06.11 |
申请号 |
CN200710141045.0 |
申请日期 |
2007.08.16 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
廖忠志;王郁仁;蔡嘉雄 |
分类号 |
H01L23/522(2006.01);H01L27/22(2006.01);G11C11/15(2006.01) |
主分类号 |
H01L23/522(2006.01) |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
陈晨 |
主权项 |
1.一种存储单元结构,包括:一存储叠层,具有一下电极及一上电极;一导体延伸层,电性连接该下电极,且具有一延伸部,其自该存储叠层横向延伸,该存储叠层形成于该导体延伸层的主要部分上;一数据控制线,用以控制该存储叠层的存储状态,其直接形成于该存储叠层和该导体延伸层的主要部分下;一下金属层,形成于该延伸部之下,且电性耦接于一开关装置,以读取该存储叠层的存储状态;以及一介层插塞结构,直接连接该延伸部至该下金属层,且直接横向相邻于该数据控制线。 |
地址 |
中国台湾新竹市 |