| 发明名称 | 正型抗蚀剂组合物以及抗蚀剂图案形成方法 | ||
| 摘要 | 一种正型抗蚀剂组合物，其中含有树脂成分(A)、以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B)；上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1)，(B1)[式中，R<SUP>51</SUP>表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基；R<SUP>52</SUP>为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基；R<SUP>53</SUP>为可具有取代基的芳基；n为1～3的整数]。 | ||
| 申请公布号 | CN101198905A | 申请公布日期 | 2008.06.11 |
| 申请号 | CN200680019830.2 | 申请日期 | 2006.04.07 |
| 申请人 | 东京应化工业株式会社 | 发明人 | 木下洋平 |
| 分类号 | G03F7/004(2006.01);G03F7/039(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种正型抗蚀剂组合物，其中含有一种具有酸离解性溶解抑制基、且可通过酸的作用使碱可溶性增大的树脂成分(A)，以及可通过曝光产生酸的酸发生剂成分(B)；上述酸发生剂成分(B)含有由下述通式(B1)表示的酸发生剂(B1)：【化1】<img file="S2006800198302C00011.GIF" wi="854" he="487" />式中，R<sup>51</sup>表示直链、支链或环状的烷基、或者直链、支链或环状的氟代烷基；R<sup>52</sup>为氢原子、羟基、卤素原子、直链、支链或环状的烷基、直链或支链状的卤代烷基、或者直链或支链状的烷氧基；R<sup>53</sup>为可具有取代基的芳基；n为1～3的整数。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||