发明名称 半导体激光装置
摘要 一种半导体激光装置,根据本发明的半导体激光装置,脊部(150)构成波导路,波导光沿脊部(150)被波导,该波导光的下部也存在于第一侧部(151),但第二侧部(152)构成未达到所述波导光下面的区域。另一方面,由脊部(150)产生的散射光经由第一侧部(151),在第二侧部(152)进行扩展,但在该第二侧部(152)上,由于在第一包层(108)上形成有成为光吸收体的光吸收层(127),故散射光被吸收。通过由该第二侧部(152)吸收散射光,降低放射光的波动。另外,由于使光吸收层(127)与p侧欧姆电极(125)层电接触,故可避免向光吸收层(127)蓄积电荷的问题。
申请公布号 CN100394653C 申请公布日期 2008.06.11
申请号 CN200510073803.0 申请日期 2005.05.24
申请人 夏普株式会社 发明人 渡辺昌规;川户伸一;松本晃广
分类号 H01S5/20(2006.01);H01S5/22(2006.01);H01S5/30(2006.01);H01S5/00(2006.01) 主分类号 H01S5/20(2006.01)
代理机构 北京市柳沈律师事务所 代理人 李贵亮;杨梧
主权项 1.一种半导体激光装置,其特征在于,包括:脊部,其依次层积下包层、活性层、第一上包层、第二上包层以及电极层;第一侧部,其配置于所述脊部的两外侧,同时,依次层积所述下包层、所述活性层、所述第一上包层以及折射率比所述第一上包层小的埋入层;第二侧部,其配置于所述第一侧部的两外侧,同时,依次层积所述下包层、所述活性层、所述第一上包层以及光吸收层,并且在所述第一上包层与所述光吸收层之间没有层叠所述埋入层,所述光吸收层与所述电极层电接触。
地址 日本大阪府